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    RF射頻電源

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    • 技術參數
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    • 選配件
    PECVD系統,它由管式爐,石英真空室、真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。主要使用于:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,石墨烯等生長。增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能。該PECVD系統具有: 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。

     RF射頻電源主要技術參數:

    功率輸出范圍

      0-500W

    最大反射功率

     200W

    工作頻率

    射頻:13.56MHZ±0.005%

    功率穩定度

     +/-0.1%

    諧波分量

    ≤-50dbc

    射頻區域寬度

    0-600mm 可調

    匹配方式 

     自動

     冷卻方式

     分冷

     噪聲

     <50dB

     射頻接口

     50Ω   N-type

    輸入電源 

     208-240V  50/60HZ

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     



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